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  • NS200納米級(jí)表面測(cè)量臺(tái)階儀
    NS200納米級(jí)表面測(cè)量臺(tái)階儀

    NS系列納米級(jí)表面測(cè)量臺(tái)階儀是一種接觸式表面形貌測(cè)量?jī)x器,可以對(duì)微米和納米結(jié)構(gòu)進(jìn)行膜厚和薄膜高度、表面形貌、表面波紋和表面粗糙度等的測(cè)量。

    時(shí)間:2024-07-30型號(hào):NS200訪(fǎng)問(wèn)量:624
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  • NS200晶圓探針式輪廓儀臺(tái)階儀
    NS200晶圓探針式輪廓儀臺(tái)階儀

    Nano Step系列晶圓探針式輪廓儀臺(tái)階儀采用了線(xiàn)性可變差動(dòng)電容傳感器LVDC,具備超微力調(diào)節(jié)的能力和亞埃級(jí)的分辨率,同時(shí),其集成了超低噪聲信號(hào)采集、超精細(xì)運(yùn)動(dòng)控制、標(biāo)定算法等核心技術(shù),使得儀器具備超高的測(cè)量精度和測(cè)量重復(fù)性。

    時(shí)間:2024-07-22型號(hào):NS200訪(fǎng)問(wèn)量:565
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  • NS200柔性電子器件薄膜測(cè)量臺(tái)階儀
    NS200柔性電子器件薄膜測(cè)量臺(tái)階儀

    中圖儀器NS系列柔性電子器件薄膜測(cè)量臺(tái)階儀是一款超精密接觸式微觀輪廓測(cè)量?jī)x器,可以對(duì)微米和納米結(jié)構(gòu)進(jìn)行膜厚和薄膜高度、表面形貌、表面波紋和表面粗糙度等的測(cè)量。

    時(shí)間:2024-07-17型號(hào):NS200訪(fǎng)問(wèn)量:639
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  • NS200微觀二維形貌輪廓臺(tái)階儀
    NS200微觀二維形貌輪廓臺(tái)階儀

    微觀二維形貌輪廓臺(tái)階儀工作時(shí),觸針沿被測(cè)表面輕輕滑過(guò),由于表面有微小的峰谷使觸針在滑行的同時(shí)還沿峰谷作上下運(yùn)動(dòng)。觸針的運(yùn)動(dòng)情況就反映了表面輪廓的情況。

    時(shí)間:2024-07-23型號(hào):NS200訪(fǎng)問(wèn)量:403
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  • NS200探針式膜層厚度表面粗糙度臺(tái)階儀
    NS200探針式膜層厚度表面粗糙度臺(tái)階儀

    NS系列探針式膜層厚度表面粗糙度臺(tái)階儀可以對(duì)微米和納米結(jié)構(gòu)進(jìn)行膜厚和薄膜高度、表面形貌、表面波紋和表面粗糙度等的測(cè)量。樣品適應(yīng)面廣,對(duì)測(cè)量工件的表面反光特性、材料種類(lèi)、材料硬度都沒(méi)有特別要求,數(shù)據(jù)復(fù)現(xiàn)性高、測(cè)量穩(wěn)定、便捷、高效,是微觀表面測(cè)量中使用非常廣泛的微納樣品測(cè)量手段。

    時(shí)間:2024-07-17型號(hào):NS200訪(fǎng)問(wèn)量:334
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  • NS200中圖儀器NS系列臺(tái)階厚度儀
    NS200中圖儀器NS系列臺(tái)階厚度儀

    中圖儀器NS系列臺(tái)階厚度儀是一款超精密接觸式微觀輪廓測(cè)量?jī)x,其采用LVDC電容傳感器,具有的亞埃級(jí)分辨率和超微測(cè)力等特點(diǎn)使得其在薄膜厚度的測(cè)量上具有很強(qiáng)的優(yōu)勢(shì)。

    時(shí)間:2024-07-23型號(hào):NS200訪(fǎng)問(wèn)量:377
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  • NS200薄膜厚度臺(tái)階測(cè)量?jī)x
    NS200薄膜厚度臺(tái)階測(cè)量?jī)x

    中圖儀器NS系列薄膜厚度臺(tái)階測(cè)量?jī)x集成了超低噪聲信號(hào)采集、超精細(xì)運(yùn)動(dòng)控制、標(biāo)定算法等核心技術(shù),具備超高的測(cè)量精度和測(cè)量重復(fù)性。它主要用于臺(tái)階高、膜層厚度、表面粗糙度等微觀形貌參數(shù)的測(cè)量。

    時(shí)間:2024-07-17型號(hào):NS200訪(fǎng)問(wèn)量:439
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  • NS200接觸式臺(tái)階儀測(cè)膜厚儀
    NS200接觸式臺(tái)階儀測(cè)膜厚儀

    NS系列接觸式臺(tái)階儀測(cè)膜厚儀超精密接觸式測(cè)量微觀輪廓,主要用于臺(tái)階高、膜層厚度、表面粗糙度等微觀形貌參數(shù)的測(cè)量。能夠測(cè)量納米到330μm甚至1000μm的臺(tái)階高度,可以準(zhǔn)確測(cè)量蝕刻、濺射、SIMS、沉積、旋涂、CMP等工藝期間沉積或去除的材料。

    時(shí)間:2024-07-17型號(hào):NS200訪(fǎng)問(wèn)量:461
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